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英特尔 CTO 称其与台积电制程技术差距小于 10%,但产能追赶仍需时间
AI 导读
英特尔首席技术官普什卡尔·拉纳德表示,从制程技术角度来看,英特尔与台积电的差距已缩小至几个百分点,但扩大制造规模仍需时间。拉纳德指出,先进制程的竞争不仅取决于技术指标,还受制于全球半导体制造设备的供应能力。此外,英特尔制造开发与客户合作部门副总裁克里斯·奥斯谈到了 High-NA EUV 技术在部分工艺中的应用,并表示 14A 制程已将该技术作为可选方案提供给客户。
来源:IT之家 · ithome.com