英特尔CTO称与台积电制程差距已小于10%
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英特尔CTO称与台积电制程差距已小于10%
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英特尔首席技术官普什卡尔·拉纳德表示，从制程技术角度来看，英特尔与台积电的差距已缩小至几个百分点（小于10%），但扩大制造规模仍需时间，且先进制程竞争受制于全球半导体制造设备的供应能力。 英特尔制造开发与客户合作部门副总裁克里斯·奥斯补充称，High-NA EUV 技术已在部分工艺中应用，14A 制程已将该技术作为可选方案提供给客户。
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最新进展10月24日 15:56
英特尔 CTO 称其与台积电制程技术差距小于 10%，但产能追赶仍需时间报道时间线
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10月24日
- IT之家英特尔 CTO 称其与台积电制程技术差距小于 10%，但产能追赶仍需时间
英特尔首席技术官普什卡尔·拉纳德表示，从制程技术角度来看，英特尔与台积电的差距已缩小至几个百分点，但扩大制造规模仍需时间。拉纳德指出，先进制程的竞争不仅取决于技术指标，还受制于全球半导体制造设备的供应能力。此外，英特尔制造开发与客户合作部门副总裁克里斯·奥斯谈到了 High-NA EUV 技术在部分工艺中的应用，并表示 14A 制程已将该技术作为可选方案提供给客户。
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