Gigaphoton 推出 hTGM 新型氖气回收系统，回收率达 50%

日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 推出用于 ArF 准分子激光器的 hTGM 新型氖气回收系统，可实现 50% 的氖气回收率。该系统在调整配置后有望进一步提升回收效率，以帮助弥补芯片供应链缺口。目前全球约 70% 的氖气产量用于半导体制造，其中很大一部分应用于先进的深紫外光刻工艺。