Gigaphoton推出hTGM新型氖气回收系统
热点事件持续更新
Gigaphoton推出hTGM新型氖气回收系统
1 篇报道1 个报道来源2 小时前更新
先了解这件事
AI 综述
日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 推出用于 ArF 准分子激光器的 hTGM 新型氖气回收系统，可实现 50% 的氖气回收率，并在调整配置后有望进一步提升回收效率。 该系统旨在帮助弥补芯片供应链缺口。目前全球约 70% 的氖气产量用于半导体制造，其中很大一部分应用于深紫外光刻工艺。
AI 根据报道生成 · 2 小时前更新
最新进展10月6日 22:18
Gigaphoton 推出 hTGM 新型氖气回收系统，回收率达 50%报道时间线
沿着报道，了解事件的不同侧面。
10月6日
- IT之家Gigaphoton 推出 hTGM 新型氖气回收系统，回收率达 50%
日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 推出用于 ArF 准分子激光器的 hTGM 新型氖气回收系统，可实现 50% 的氖气回收率。该系统在调整配置后有望进一步提升回收效率，以帮助弥补芯片供应链缺口。目前全球约 70% 的氖气产量用于半导体制造，其中很大一部分应用于先进的深紫外光刻工艺。
本事件热度走势
还没有足够的连续观测数据，暂不绘制趋势。