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三星与SK海力士升级中国工厂生产先进闪存

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AI 综述

三星电子与SK海力士正克服出口限制,升级其中国工厂以生产200层以上的NAND闪存芯片。 三星计划将西安工厂改造为生产286层V9 NAND芯片,目标在今年12月实现每月5000片晶圆产量,并在2027年12月提升至4万片;SK海力士则计划将大连工厂的NAND产线升级为240层以上产品。

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10月21日
  1. IT之家
    三星电子、SK 海力士升级中国工厂以生产更先进闪存芯片

    三星电子与 SK 海力士正克服出口限制,升级其中国工厂以生产 200 层以上的 NAND 闪存芯片。三星电子计划将西安工厂改造为生产 286 层 V9 NAND 闪存芯片,目标在今年 12 月实现每月 5000 片晶圆产量,并在 2027 年 12 月将月产量提升至 4 万片;SK 海力士则计划将大连工厂的 NAND 产线升级为 240 层以上产品。

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